Вольфрамовый порошок ВК6

Вольфрамовый порошок ВП-2,7 демонстрирует высокую химическую инертность в средах, таких как инертные газы (аргон, гелий), вакуум, а также в восстановительных атмосферах (водород) при высоких температурах. Он также устойчив к агрессивным воздействиям расплавленных металлов, таких как медь, серебро, свинец.

Вольфрамовый порошок имеет ограниченную устойчивость к воздействию хлора при высоких температурах. Выше 250°C вольфрам реагирует с хлором, образуя летучие хлориды вольфрама (WCl6), что приводит к его коррозии и разрушению материала.

Применение вольфрамового порошка для изготовления электрических контактов обусловлено его высокой электропроводностью, тугоплавкостью, высокой эрозионной стойкостью и устойчивостью к дуговому разряду. Для таких целей часто используют композиты вольфрама с медью или серебром.

Чистота вольфрамового порошка критически влияет на его электропроводность. Повышенное содержание примесей, особенно неметаллических (кислород, углерод) или высокоомных металлических, увеличивает удельное электрическое сопротивление, снижая электропроводность спеченного материала. Высокая чистота обеспечивает максимальную электропроводность.

Вольфрамовый порошок используется в аэрокосмической отрасли для повышения массы в элементах управления полетом, гироскопах и балластных системах. Его высокая плотность позволяет разместить необходимую массу в ограниченном пространстве, оптимизируя аэродинамические характеристики.

Для создания компонентов космической техники оптимален вольфрамовый порошок высокой чистоты, с контролируемой дисперсностью и однородным гранулометрическим составом. Это обеспечивает получение деталей с высокой плотностью, жаропрочностью и стойкостью к радиации и экстремальным температурам.

Вольфрамовый порошок ВП-МП (мелкодисперсный) при высоких температурах в восстановительной атмосфере (например, водороде) демонстрирует высокую стабильность и реакционную способность. Водород предотвращает окисление и способствует удалению остаточных оксидов, что приводит к получению чистой, активированной поверхности частиц.