Вольфрамовый лист 1х250х500 мм В-МП в Пскове

Лист ВА подвержен коррозии под воздействием газообразного хлора при 100°С. Вольфрам активно реагирует с хлором, образуя летучие хлориды вольфрама, что приводит к быстрому разрушению материала в такой атмосфере.

Выбор листа ВА для термоизоляционных барьеров в вакуумных печах определяется его высокой температурой плавления, низким давлением паров и отличными отражательными свойствами для ИК-излучения. Это обеспечивает эффективную теплоизоляцию и минимизирует теплопотери.

Высокая чистота и полировка поверхности листа снижают его коэффициент термического излучения в вакууме. Гладкая, без окислов поверхность эффективно отражает тепло, уменьшая теплопотери и улучшая энергоэффективность в высокотемпературных вакуумных установках.

Преимущества применения вольфрамового листа в качестве мишеней для ионной имплантации заключаются в его высокой плотности, высоком атомном номере и высокой температуре плавления. Эти свойства обеспечивают эффективное торможение ионов, минимизируют распыление и позволяют работать с высокими токами.

Вольфрамовые листы с зеркальной поверхностью необходимы для применений, требующих максимального термического отражения или минимальной эмиссии. Это актуально для тепловых экранов вакуумных печей, оптических систем или подложек для высокоточного осаждения тонких пленок, где важна гладкость.

При лазерной сварке листов ВД с керамикой возникают проблемы из-за значительной разницы в коэффициентах термического расширения. Это приводит к высоким остаточным напряжениям и растрескиванию, а также сложности в обеспечении прочного соединения без образования хрупких интерметаллидов.

Пластичность листа ВА значительно возрастает при нагреве до 1800°С. Эта температура превышает температуру хрупко-вязкого перехода вольфрама, что позволяет проводить эффективную высокотемпературную формовку и обработку материала.